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産業IH機器予熱・加熱製品

高周波誘導加熱を利用した塗装乾燥装置や鋼線・線材加熱装置を各種取り揃えております。また、エピタキシャル成長装置などの半導体製造装置に使用する高周波電源も販売しています。

予熱・加熱用高周波誘導加熱装置及び高周波誘導加熱電源

高周波誘導加熱装置及び高周波誘導加熱電源(高周波インバータ)は各種加熱用途にあわせて品揃えがあります。

エピタキシャル成長装置のサセプターの加熱 塗装乾燥用のコイル例
エピタキシャル成長装置(エピ炉)用高周波発振器 部品の塗装乾燥用コイル/線材の塗装乾燥用コイル
取扱製品(用途例)
加熱 金属加熱装置 鋼線加熱装置 線材加熱装置
金型加熱装置 静電粉体塗装の乾燥 金属の乾燥
電気炉の更新 ガス炉の更新 電気ヒーターの更新
高温加熱炉の更新    
鉄、SUS(ステンレス)、アルミ、真鍮(黄銅)、銅、合金、カーボン等の各種加熱
半導体 単結晶引き上げ装置用高周波電源 エピタキシャル成長装置(エピ炉)用高周波電源 サセプタの加熱
SiC製造設備用高周波誘導加熱電源    
ボンバータ 電子管加熱装置 ネオン管加熱装置 表示管加熱装置
水銀灯加熱装置 蛍光灯などのガス排気 ゲッターフラッシュ装置
熱サイクル試験 金属材料の熱サイクル試験装置 教材としての加熱  
薄板加熱、箔加熱 磁性の薄板加熱:磁性SUS材/ステンレス材の加熱、磁性鋼板、ラミネート鋼板、バイメタル、合金等の焼鈍・乾燥・貼り付け前予熱加熱
非磁性の薄板材及び箔の加熱:アルミ薄板、アルミ箔、非磁性SUS材/ステンレス材等の加熱
圧延前の予熱、圧延後の焼鈍、鋼板の部分加熱(温度低下が早い端部のみ加熱)
リチウムイオン二次電池用箔の加熱
非磁性材の薄板及び箔の連続加熱(焼鈍、乾燥、等)も、当社特許技術により高周波誘導加熱で対応可能です。
他社で対応できなかった案件でも、お気軽にご相談下さい。
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12パルス方式高調波抑制型高周波電源

当社ECO型シリーズ高周波電源は、ダイオード整流方式により、力率の改善と高調波ひずみの抑制をしていますが、さらに、高調波ひずみ低減への対応として、12パルス方式の高周波誘導加熱電源を製品化しています。(ECO型シリーズ高周波電源のオプション対応)

用途/特長

インバータ回路での位相制御方式により、整流はダイオードを使用。
高力率(95%以上)
電源高調波抑制
従来のサイリスタ整流式に比較して大幅に高調波成分を抑制。

高調波抑制型高周波電源 高調波抑制型高周波電源回路
高調波電流 5次 7次 11次 13次 17次
サイリスタ式
従来型
30.00% 13.00% 8.40% 5.00% 4.70%
12パルス方式 2.00% 1.50% 4.50% 3.00% 0.20%
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対象エリア均一加熱用高周波誘導加熱電源

誘導加熱(IH:Induction Heating)は、被加熱物(金属ワーク)の自己発熱により、高効率、高精度、かつ、クリーンで安全な装置を提供できるため、工業用に多方面で使われています。
今回、対象エリアを均一加熱制御可能な高周波誘導加熱電源を開発、製品化しました。

用途/特長

複数の高周波誘導加熱電源による個別出力制御により、対象エリアを均一に加熱
干渉防止回路により、コイル間の相互干渉無し
複数電源は1周波駆動のため、周波数差による隣接コイル間のビート成分の発生も無し
高効率インバータを採用

エリア均一加熱型高周波電源
対象エリア均一加熱IH電源(20kW×複数台)
エリア均一加熱型高周波電源イメージ 近接した多数のるつぼの加熱制御
用途例① 円柱、円筒型ワークの超均一加熱制御 用途例② 近接した多数坩堝の個別加熱制御
仕様
型名 定格出力 外形寸法
W×H×D (mm)
周波数
(1周波)
冷却水
(L/min)
重量
(kg)
HFM-DH20□□×4 20kW×4 1110×1900×1200 7~30kHz 20 910
HFM-DH20□□×6 20kW×6 1440×1900×1200 7~30kHz 30 1040
HFM-DH20□□×8 20kW×8 1770×1900×1200 7~30kHz 40 1170
HFM-DH20□□×10 20kW×10 2100×1900×1200 7~30kHz 50 1300
HFM-DH20□□×12 20kW×12 2430×1900×1200 7~30kHz 60 1430
注)外形寸法及び重量は、ご仕様により変更する場合があります。


用語説明
ボンバータ,ゲッターフラッシュとは
蛍光灯やランプなどの真空管の中に、加熱するとガスを吸着する金属(ゲッター)を入れ高周波誘導加熱し、不純物(ガス)を取り除き真空度を上げる工程のこと
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